[发明专利]电光装置、图像形成装置无效
| 申请号： | 200710153299.4 | 申请日： | 2007-09-29 |
| 公开（公告）号： | CN101153696A | 公开（公告）日： | 2008-04-02 |
| 发明（设计）人： | 五味二夫 | 申请（专利权）人： | 精工爱普生株式会社 |
| 主分类号： | F21V5/04 | 分类号： | F21V5/04;F21V8/00;G03G15/043;G03G15/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种电光装置，具有在基板上的一个方向排列多个发光元件的光源阵列、将来自所述发光元件的出射光在像担持体成像的透镜元件在所述一个方向上排列多个的透镜阵列、按照在所述光源阵列和所述透镜阵列之间与所述光源阵列和所述透镜阵列接触的方式配置的第一光透过构件和第二光透过构件，所述第一光透过构件和所述第二光透过构件在所述一个方向上连接配置，所述第一光透过构件和所述第二光透过构件在弹性模量、折射率、光透过率中至少一个不同。 | ||
| 搜索关键词： | 电光 装置 图像 形成 | ||
【主权项】：
1.一种电光装置，具有：在基板上的一个方向排列多个发光元件的光源阵列；将来自所述发光元件的出射光在像担持体成像的透镜元件在所述一个方向上排列多个的透镜阵列；和按照在所述光源阵列与所述透镜阵列之间与所述光源阵列和所述透镜阵列接触的方式配置的第一光透过构件和第二光透过构件，所述第一光透过构件和所述第二光透过构件在所述一个方向上连接配置；所述第一光透过构件与所述第二光透过构件在弹性模量、折射率、光透过率中至少一个不同。
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