[发明专利]双金属片的处理工艺及镀膜双金属片无效

专利信息
申请号: 200710156604.5 申请日: 2007-10-31
公开(公告)号: CN101230473A 公开(公告)日: 2008-07-30
发明(设计)人: 洪常青 申请(专利权)人: 洪常青
主分类号: C25D7/00 分类号: C25D7/00;C25D17/16;H01H37/52
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 311604*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明涉及一种双金属片的处理工艺及镀膜双金属片。所述的双金属片的处理工艺,将双金属片表面进行电镀处理以得到镀膜保护层。所述的镀膜双金属片,包括双金属片本体,所述的双金属片本体包覆有镀膜保护层。经电镀处理后,双金属片本体包覆有镀膜保护层,从而双金属片可以耐腐蚀,使用寿命长;镀膜保护层采用相对电导率高的金属,则可以有效地降低导电电阻,减少能耗,在金属片成型的时候加工过程中更容易控制。
搜索关键词: 双金属 处理 工艺 镀膜
【主权项】:
1.一种双金属片的处理工艺,其特征在于将双金属片表面进行电镀处理以得到镀膜保护层。
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