[发明专利]基板清洗装置、基板清洗方法及存储介质有效

专利信息
申请号: 200710160027.7 申请日: 2007-12-20
公开(公告)号: CN101207007A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 泷口靖史;山本太郎;藤本昭浩;锦户修一;熊谷大;吉高直人;北野高广;德永容一 申请(专利权)人: 东京毅力科创株式会社
主分类号: H01L21/00 分类号: H01L21/00;H01L21/02;B08B7/04
代理公司: 北京纪凯知识产权代理有限公司 代理人: 龙淳
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种基板清洗装置,其不需要进行基板的反转,并且能够以不给基板的周边部造成损伤的方式对基板的背面进行清洗。基板保持装置(1)具备从背面支撑保持背面朝下状态的基板的2个基板保持单元(吸附垫(2)、旋转卡盘(3)),支撑的区域不重叠,同时在这些的基板保持单元之间进行基板交接。清洗部件(刷子(5))对由基板保持单元支撑的区域以外的基板的背面进行清洗,利用在2个基板保持单元之间交接基板,对基板的整个背面进行清洗。
搜索关键词: 清洗 装置 方法 存储 介质
【主权项】:
1.一种基板清洗装置,用于对基板的背面进行清洗,其特征在于,包括:水平地吸附保持朝向下方的基板背面的第一区域的第一基板保持单元;从该第一基板保持单元接收基板,水平地吸附保持不与所述第一区域重叠的基板背面的第二区域的第二基板保持单元;向在所述第一基板保持单元或第二基板保持单元上吸附保持的基板的背面供给清洗液的清洗液供给单元;用于在从所述第一基板保持单元向所述第二基板保持单元交接基板之前,对所述第二区域进行干燥的干燥单元;和在基板由第一基板保持单元保持的期间,与包括所述第二区域的基板的背面接触并进行清洗,在该基板由所述第二基板保持单元保持的期间,与所述第二区域以外的基板的背面接触并进行清洗的清洗部件。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社,未经东京毅力科创株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710160027.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top