[发明专利]一种氧化锌基稀磁半导体材料及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200710160240.8 申请日: 2007-12-14
公开(公告)号: CN101183587A 公开(公告)日: 2008-05-21
发明(设计)人: 严密;顾浩;马天宇;罗伟 申请(专利权)人: 浙江大学
主分类号: H01F1/40 分类号: H01F1/40;H01F41/00;C01G9/02;B22F9/16
代理公司: 杭州求是专利事务所有限公司 代理人: 张法高
地址: 310027*** 国省代码: 浙江;33
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了纳米添加氧化锌基稀磁半导体材料及其制备方法。制备了氧化锌基稀磁半导体多晶粉末,其具有分子结构式Zn1-xTMxO,其中TM代表过渡金属元素Fe、Co、Ni、Mn,其浓度为x=0~10%,并通过掺入纳米SiO2或纳米C粉体的方式获得了更高磁性能的稀磁半导体粉体样品。用醋酸锌和过渡金属盐作为前驱物,溶于乙二醇甲醚中,加入适量的稳定剂乙醇胺,搅拌完全溶解后,经过陈化、烘干、热处理后,得到Zn1-xTMxO多晶粉末,将此粉末与纳米粉体混合,充分研磨后,再次进行热处理,制得所需的纳米添加氧化锌基稀磁半导体材料。在制得具有室温铁磁性氧化锌基稀磁半导体材料的基础上,成功引入纳米粉体,改善其晶界缺陷,提高材料磁性能。
搜索关键词: 一种 氧化锌 基稀磁 半导体材料 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种纳米添加氧化锌基稀磁半导体材料,其特征在于由重量比为1∶8~10的氧化锌基稀磁半导体材料和纳米添加物混合而成,氧化锌基稀磁半导体材料的分子结构式为Zn1-xTMxO,TM代表过渡金属元素Fe、Co、Ni、Mn,其浓度为x=0~10%,纳米添加物为纳米SiO2或纳米C,纳米SiO2或纳米C的颗粒大小为20~30nm。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江大学,未经浙江大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710160240.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top