[发明专利]功率金属氧化物硅场效应晶体管无效
申请号: | 200710162860.5 | 申请日: | 2007-10-16 |
公开(公告)号: | CN101165899A | 公开(公告)日: | 2008-04-23 |
发明(设计)人: | 秋庚兑;沈揆光;金钟玟 | 申请(专利权)人: | 东部高科股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/088 | 分类号: | H01L27/088;H01L23/528;H01L29/78;H01L29/41 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种功率金属氧化物硅场效应晶体管,其中源极彼此连接,单个源极向两个沟道提供电子,使所述源极和沟道之间的接触表面不同变化以最大化从而大电流在小面积中流动,以及电场不会朝栅极边缘集中。 | ||
搜索关键词: | 功率 金属 氧化物 场效应 晶体管 | ||
【主权项】:
1.一种装置,包括:半导体衬底;设置在所述半导体衬底之上的多个栅极;在所述半导体衬底之上和相邻所述多个栅极处组成阵列的多个基区;以及围绕并延伸在相邻基区之间的多个源极间连接图案,用于向所述多个栅极提供电流,其中所述源极间连接图案具有延伸至所述多个栅极的接触区域的预定几何图案。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的