[发明专利]电压模式电流控制无效
| 申请号： | 200710163297.3 | 申请日： | 2006-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN101168241A | 公开（公告）日： | 2008-04-30 |
| 发明（设计）人： | 斯坦·D·蔡;雷克什曼·卡鲁比亚 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/00 | 分类号： | B24B29/00;B24B49/10;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 徐金国;梁挥 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于电压模式电流控制的方法和装置。一种计算机辅助的方法包括：(a)在衬底的导电薄膜上开始ECMP抛光步骤；(b)设置电压源的当前输出电压，所述当前输出电压根据ECMP抛光步骤的菜单进行设置；(c)测量通过所述导电薄膜的电流；(d)基于所述测量的电流计算电流抛光速率；(e)基于目标抛光速率，确定是否需要调整当前输出电压；以及(f)当确定需要调整时，计算并实现对所述当前输出电压的所述调整。 | ||
| 搜索关键词： | 电压 模式 电流 控制 | ||
【主权项】：
1.一种电化学机械抛光的方法，包括：引入衬底的导电薄膜与存在电解液的抛光表面接触；在所述电解液和所述衬底之间施加初始电压；测量通过所述导电薄膜的电流；基于所测量的电流计算抛光速率；比较所述抛光速率与目标抛光速率；确定调整电压以使所述抛光速率更接近所述目标抛光速率；以及在所述电解液和所述衬底之间施加调整电压。
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