[发明专利]用于化学机械研磨的漩涡电流监测方法和设备有效
| 申请号： | 200710163298.8 | 申请日： | 2003-02-06 |
| 公开（公告）号： | CN101172332A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | 曼伍却尔·拜蓝;柏格斯劳·A·史威克;金景哲 | 申请（专利权）人： | 应用材料股份有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;B24B29/00;B24D13/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人： | 梁挥;徐金国 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | 一种研磨系统(20)，可具有一转动平台(24)；一固定于平台上的研磨垫(30)；一固定基材使其正面朝下对着研磨垫的载具头(10)；以及一漩涡电流监测系统，该漩涡电流监测系统包括至少部分通过研磨垫的一线圈或一强磁体。一研磨垫，具有一研磨层，和固定于该研磨层上的一线圈或一强磁体。一凹槽可以在该研磨垫里的透明窗中形成。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 化学 机械 研磨 漩涡 电流 监测 方法 设备 | ||
【主权项】：
1.一种研磨部件，包括：研磨垫，包含具有研磨表面的研磨层；以及位于该研磨层中的固体透明窗，所述透明窗具有与所述研磨表面齐平的顶表面，具有限定凹陷内表面的凹槽的底表面，所述凹槽的凹陷内表面和所述窗口的顶表面之间的较薄区域，以及在所述顶表面和所述底表面之间围绕所述较薄区域的厚区域，所述厚区域并固定于所述研磨垫上。
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