[发明专利]一种相位掩膜板及其应用这种相位掩膜板的成像系统

摘要

本发明公开了一种相位掩膜板，其相位分布函数包含对数型和高次方型两种函数，函数式如下：，式中，M、N为对数型函数和高次方型函数的放大率；α₁、β₁为对数型函数的参数；α₂、β₂为高次方型函数的参数；x为归一化的径向坐标。采用本发明相位掩膜板的成像系统，其调制传递函数MTF对离焦量非常不敏感(即MTF随离焦量的变化很小)，MTF的方差较对数型掩膜板和高次方型掩膜板更小，从而对图像处理单元的去卷积工作更为有利。

主权项

1.一种相位掩膜板，其特征在于：所述的相位掩膜板的相位分布函数包含对数型和高次方型两种函数，函数式如下：${\theta }_{\mathrm{phase}}=M\left\{{\alpha }_1{x}^2\right[\log \left(\right|x|+{\beta }_1)\left]\right\}+{\mathrm{N\alpha }}_2{\left|x\right|}^{{\beta }_2}$ 式中，M、N为对数型函数和高次方型函数的放大率；α1、β1为对数型函数的参数；α2、β2为高次方型函数的参数；x为归一化的径向坐标。