[发明专利]工艺、设备以及器件

摘要

一种光刻设备包括配置用于调节辐射束的照射系统、用于图案形成装置的支撑结构、用于衬底的衬底台、投影系统以及控制系统。所述图案形成装置能够将图案赋予到辐射束的横截面上以形成图案化辐射束。配置所述投影系统以沿扫描路径将作为图像的图案化的辐射束投影到衬底目标部分上。所述扫描路径由光刻设备的曝光区域的扫描方向上的轨迹限定。所述控制系统与支撑结构、衬底台以及投影系统相连接，用于分别控制支撑结构、衬底台以及投影系统的运动。所述控制系统配置用于通过区域中图像的暂时调整，修正沿扫描路径区域中的图像局部扭曲。

主权项

1.一种用于在衬底的目标区域上制作交叠图案的工艺，包括：-提供交叠图案之间的重叠误差，所提供的重叠误差对应于根据所述工艺模型的至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值控制工艺；-通过使模型与包括所提供的重叠误差以及用于至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的建议值的数据相适应，确定对应于最小重叠误差的至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的值；-制作交叠图案，由此根据至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的经过确定的值来控制所述工艺；其特征在于：根据至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的第一个经过确定的值制作所述交叠图案中一个的第一部分，以及根据至少一个工艺参数中的每一个工艺参数的第二个经过确定的值制作所述交叠图案中的一个的第二部分，其中第一个值不同于第二个值。