[发明专利]用流动梯度设计沉积均匀硅膜的方法和装置有效

专利信息
申请号: 200710165353.7 申请日: 2007-10-26
公开(公告)号: CN101319309A 公开(公告)日: 2008-12-10
发明(设计)人: 崔寿永;元泰景;约翰·M·怀特 申请(专利权)人: 应用材料股份有限公司
主分类号: C23C16/44 分类号: C23C16/44
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明提供一种由气体分布板产生流动梯度的方法和装置。在一个实施例中,该方法和装置特别用于,但不限于,沉积太阳能电池用硅膜。沉积太阳能电池用均匀硅膜的装置包括处理室,和设置在处理室中并具有至少四个由四个边分隔的角的四边形的气体分布板。该气体分布板还包括穿过气体分布板形成的第一多个节流口,该第一多个节流口位于角中,和穿过气体分布板形成的第二多个气体节流口,该第二多个节流口沿角区域之间的边设置,其中第一多个节流口具有比第二多个节流口更大的流动阻力。
搜索关键词: 流动 梯度 设计 沉积 均匀 方法 装置
【主权项】:
1、一种用于沉积适于太阳能电池用膜的装置,包括处理室;以及沉积在处理室中并具有至少四个有四个边分隔的角的四边形气体分布板,该气体分布板还包括:穿过气体分布板形成的第一多个节流口,所述第一多个节流口设置于角中;以及穿过气体分布板形成的第二多个节流口,所述第二多个节流口沿角区域之间的气体分布板的侧面设置,其中所述第一多个节流口具有比所述第二多个节流口更大的流动阻力。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于应用材料股份有限公司,未经应用材料股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710165353.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top