[发明专利]用于形成有机绝缘膜的光敏树脂组合物和使用该组合物的设备有效
申请号: | 200710166567.6 | 申请日: | 2007-11-06 |
公开(公告)号: | CN101200566A | 公开(公告)日: | 2008-06-18 |
发明(设计)人: | 金旻成;赵相元;申东珠;李吉成 | 申请(专利权)人: | 第一毛织株式会社 |
主分类号: | C08L33/00 | 分类号: | C08L33/00;C08L39/04;C08F2/50;C08J5/18;G03F7/004 |
代理公司: | 北京润平知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周建秋;王凤桐 |
地址: | 韩国庆*** | 国省代码: | 韩国;KR |
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摘要: | 公开了一种光敏树脂组合物。该组合物含有[A]碱溶性树脂、[B]光活性化合物和[C]溶剂。所述的碱溶性树脂为含有至少一个具有氮丙啶基团的结构单元的共聚物。所述组合物具有优异的储存稳定性、高敏感性、高UV透射性、高残留膜比、改善的涂布均一性和优异的图案形成性能。还公开了用所述组合物形成的有机绝缘膜。该有机绝缘膜对溶剂和化学物质具有优异的耐受性。 | ||
搜索关键词: | 用于 形成 有机 绝缘 光敏 树脂 组合 使用 设备 | ||
【主权项】:
1.一种光敏树脂组合物,该光敏树脂组合物含有:[A]碱溶性树脂;[B]光活性化合物;和[C]溶剂,其中,所述碱溶性树脂[A]为含有至少一个具有氮丙啶基团的结构单元的共聚物。
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