[发明专利]防护薄膜组件收纳容器有效
申请号: | 200710168014.4 | 申请日: | 2007-10-31 |
公开(公告)号: | CN101174083A | 公开(公告)日: | 2008-05-07 |
发明(设计)人: | 关原一敏 | 申请(专利权)人: | 信越化学工业株式会社 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;G03F7/20;H01L21/673;B65D81/18 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 陶凤波 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供一种防护薄膜组件收纳容器,其具有能承受保管、输送中的外力冲击的足够刚性,而且能抑制盖体掀开时的剧烈外气卷吸,防止异物附着于防护薄膜组件。为达成上述目的,对树脂片材进行成形以作为防护薄膜组件收纳容器的盖体(1),并在该盖体(1)表面上设置肋部(3),其与盖体短边所成角度在10°以内,而且与其他肋部不交叉。由于各肋部并未被其他肋部切断,故能大大提高肋部(3)上下方向(纵方向)的刚性,并能防止因为外力所造成的盖体变形以及防护薄膜组件的损伤。 | ||
搜索关键词: | 防护 薄膜 组件 收纳 容器 | ||
【主权项】:
1.一种防护薄膜组件收纳容器,包含:容器本体,用以载置防护薄膜组件;盖体,其覆盖防护薄膜组件,且与该容器本体在周缘部互相嵌合卡止,其特征为:该盖体是以树脂片材成形,且在该盖体上表面上设置有至少1个肋部,其与盖体外形中的某一边所成角度在10°以内,且与其他肋部不相交叉。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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