[发明专利]等离子加工装置及其电极结构无效
| 申请号： | 200710169239.1 | 申请日： | 2004-03-04 |
| 公开（公告）号： | CN101146398A | 公开（公告）日： | 2008-03-19 |
| 发明（设计）人： | 野上光秀;宫本荣司 | 申请（专利权）人： | 积水化学工业株式会社 |
| 主分类号： | H05H1/34 | 分类号： | H05H1/34;H01L21/306 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 陈平 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种等离子加工装置及其电极结构，其中内介质通道(17)形成在圆环形内电极(11)的内周面(12a)和容纳在电极(11)中的圆环形内通道形成部件(15)之间。圆环形第一密封部件(18)置于电极和部件(15)的上圆周侧面之间。圆环形第二密封部件(19)置于部件(15)的底部平坦表面(15b)和电极(11)的凸缘部分(13)之间。电极(11)和部件(15)的底部圆周侧面大致相互面对，并且没有任何插入间隙。内电极11经作为气体通道的间隙(lp)被圆环形外电极(21)包围，在气体通道中加工气体被等离子化。外介质通道(27)形成在电极(21)的外周面(22a)和圆环形外通道形成部件(25)之间。第三和第四密封部件(28，29)分别置于电极(21)和部件(25)之间。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子 加工 装置 及其 电极 结构 | ||
【主权项】：
1.一种等离子加工装置中的电极结构，其中加工气体被等离子化，被等离子化的气体被施加到工件，其中所述电极结构包括：用于等离子化所述加工气体的电极，以及设置相邻于所述电极的通道形成部件，所述电极和所述通道形成部件的相对表面限定介质通道，用于允许进行温度调节的介质从其中通过，设置在所述相对表面之间的第一和第二密封部件，所述第一和第二密封部件以在其间夹持所述介质通道的方式沿着所述介质通道延伸，所述电极、通道形成部件、第一和第二密封部件都具有环形结构，所述电极的外周表面和通道形成部件设置至少作为所述相对表面的一部分，所述介质通道被形成在所述外周表面之间，以及所述第一密封部件被设置在所述外周表面之间，其中所述电极和通道形成部件之一包括径向凸起的环形凸缘部分，所述凸缘部分具有与所述外周表面正交的扁平表面，所述电极和通道形成部件的另外一个包括与所述外周表面正交并与所述凸缘部分的扁平表面相对的扁平表面，以及所述扁平表面作为另外的相对表面设置并允许所述第二密封部件夹持在其间。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于积水化学工业株式会社，未经积水化学工业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710169239.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：测量涡轮增压器芯部组件的旋转不平衡的装置
- 下一篇：电源管理结构及管理机制
