[发明专利]平面型铟镓砷红外焦平面探测器及制备方法无效
申请号: | 200710170717.0 | 申请日: | 2007-11-21 |
公开(公告)号: | CN101170142A | 公开(公告)日: | 2008-04-30 |
发明(设计)人: | 吴小利;唐恒敬;张可峰;李雪;龚海梅 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L31/103 | 分类号: | H01L31/103;H01L31/0224;H01L31/18 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 20008*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种平面型铟镓砷红外焦平面器件,包括:在外延片上通过Zn扩散形成平面型pn结,其特征是:在Zn扩散区域上方周围有一加厚Cr/Au环形电极,通过Au层对入射光的反射来实现光敏元区的限定。由于加厚电极的形状由光刻图形决定,所以有效光敏元的面积可以得到精确控制。器件制备方法的特征是:在热处理前先生长SiO2钝化膜来阻止Zn在热处理过程中的向外扩散,增强了pn结的热稳定性,而且通过控制SiO2膜的厚度实现了对器件表面的钝化以及对光的增透。p电极采用单层Au层,简化了p电极生长工艺,这对工艺的稳定性以及器件的均匀性都有重要的意义,Au与InP粘附性较好,而且,通过SiO2层保护下的热退火过程,可以实现与Au/Zn/Au良好的欧姆接触。 | ||
搜索关键词: | 平面 型铟镓砷 红外 探测器 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种平面型铟镓砷红外焦平面探测器,包括:n-InP衬底(1),在n-InP衬底上通过外延方法依次排列生长n-InP(2)/InGaAs本征层(3)/n-InP帽层(4),在n-InP帽层上通过光刻、Zn扩散形成平面型pn结,在Zn扩散区域(6)及n-InP帽层上生长有一层SiO2钝化增透膜(7),在n-InP衬底的另一面生长有一底电极层(9),其特征在于:在SiO2钝化增透膜(7)上,对着Zn扩散区域上方周围有一环形电极(8),被环形电极围成的Zn扩散区域为光敏元区域(10),在光敏元区域有一从Zn扩散区域引出的P电极(8-1),P电极与环形电极联接,P电极通过环形电极将探测信号引出。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的