[发明专利]一种多晶硅化学机械抛光液无效
| 申请号： | 200710170809.9 | 申请日： | 2007-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN101440258A | 公开（公告）日： | 2009-05-27 |
| 发明（设计）人： | 荆建芬;杨春晓;王晨 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09G1/18 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种多晶硅化学机械抛光液，其含有：研磨颗粒、水和至少一种具有两个以上如图所示基团的化合物。本发明的抛光液可提高多晶硅去除速率以及多晶硅对介电材料的抛光选择比。在半导体等晶片制造领域具有较好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 多晶 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1. 一种多晶硅化学机械抛光液，含有研磨颗粒和水，其特征在于：还含有至少一种具有两个或两个以上基团的化合物。
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