[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200710171602.3 | 申请日： | 2007-11-30 |
| 公开（公告）号： | CN101451044A | 公开（公告）日： | 2009-06-10 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖;陈国栋;包建鑫 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203上海市浦东新区张江高科*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其还含有下述成分中的一种或多种：有机膦酸、聚羧酸类化合物、低级脂肪醇和糖类化合物。本发明的抛光液中，研磨颗粒的粒径随时间延长的增长率低。本发明的化学机械抛光液具有较高的稳定性、较长的存储时间和使用寿命。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1. 一种化学机械抛光液，其含有研磨颗粒和水，其特征在于其还含有下述成分中的一种或多种：有机膦酸、聚羧酸类化合物、低级脂肪醇和糖类化合物。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安集微电子（上海）有限公司，未经安集微电子（上海）有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200710171602.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
