[发明专利]一种同轴对准消色差光学系统有效
申请号: | 200710172801.6 | 申请日: | 2007-12-21 |
公开(公告)号: | CN101211124A | 公开(公告)日: | 2008-07-02 |
发明(设计)人: | 徐兵;吕晓薇 | 申请(专利权)人: | 上海微电子装备有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F9/00;G02B17/02 |
代理公司: | 上海思微知识产权代理事务所 | 代理人: | 屈蘅;李时云 |
地址: | 201203上海市*** | 国省代码: | 上海;31 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种同轴对准消色差光学系统,包含:掩模标记照明系统,其包含从照明光纤出射端沿光轴放置的照明物镜组、滤波片、分束直角棱镜、孔径光阑和前组成像物镜组;掩模标记成像系统,其包含从掩模板下表面沿光轴放置的前组成像物镜组、孔径光阑、分束直角棱镜、后组成像物镜组和CCD摄像机接收面;曝光对象标记照明系统,由掩模标记照明系统和光学投影系统组成;曝光对象标记成像系统,由掩模标记成像系统和光学投影系统组成。本发明系统使对准光学系统的体积减小并利于光机装校;光学投影系统在对准可见光波段产生的色差由对准光学系统补偿,降低了光学投影系统的结构复杂度。 | ||
搜索关键词: | 一种 同轴 对准 色差 光学系统 | ||
【主权项】:
1.一种同轴对准消色差光学系统,包含同轴对准光学系统和同轴对准曝光系统,该同轴对准光学系统包含掩模标记照明系统和掩模标记成像系统,该同轴对准曝光系统包含曝光对象标记照明系统和曝光对象标记成像系统;其特征在于:所述的掩模标记照明系统包含:从照明光纤出射端开始沿光轴依次放置的照明物镜组、滤波片、分束直角棱镜、孔径光阑和前组成像物镜组,其对于依次放置在所述前组成像物镜组后的掩模板下表面上的掩模标记实现均匀照明;所述的掩模标记成像系统包含:从掩模板下表面开始沿光轴依次放置的前组成像物镜组、孔径光阑、分束直角棱镜、后组成像物镜组和CCD摄像机接收面,其对所述掩模板上的掩模标记实现清晰成像;所述的曝光对象标记照明系统是由掩模标记照明系统和光学投影系统组成的,即其包含:从照明光纤出射端开始沿光轴依次放置的照明物镜组、滤波片、分束直角棱镜、孔径光阑、前组成像物镜组、掩模板和光学投影系统,其对依次放置在光学投影系统后的曝光对象上表面上的曝光对象标记实现均匀照明;所述的曝光对象标记成像系统是由掩模标记成像系统和光学投影系统组成的,即其包含:从曝光对象上表面开始沿光轴依次放置的光学投影系统、掩模板、前组成像物镜组、孔径光阑、分束直角棱镜、后组成像物镜组和CCD摄像机接收面,其对所述曝光对象上的曝光对象标记实现清晰成像。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备有限公司,未经上海微电子装备有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710172801.6/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:无溶剂体系生物催化快速合成阿魏酸甘油酯的方法
- 下一篇:转接头卡制结构