[发明专利]光刻胶掩模方法有效
| 申请号： | 200710177425.X | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101435992A | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 朴云峰;朴春培 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/00 | 分类号： | G03F7/00;G03F7/16;G03F7/38;G03F7/038;G03F7/039;G03F7/004;H01L27/12;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光刻胶掩模方法，包括：将敷掩板与基板贴合在一起；在所述敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶；从基板一侧对所述光刻胶进行烘烤；从基板上移开敷掩板，形成所需的光刻胶图案。本发明通过采用敷掩板的光刻工艺，将现有光刻工艺的涂敷光刻胶、前烘、曝光、显影和后烘五个步骤简化为光刻胶涂敷和后烘二个步骤，最大限度地简化了光刻工艺，缩短了工艺时间，提高了产能，同时节省了设备投资，降低了设备维护、使用费用，降低了生产成本。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 胶掩模 方法 | ||
【主权项】：
1. 一种光刻胶掩模方法，其特征在于，包括：将敷掩板与基板贴合在一起；在所述敷掩板的敷掩图案上涂敷光刻胶；从基板一侧对所述光刻胶进行烘烤；从基板上移开敷掩板，形成所需的光刻胶图案。
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