[发明专利]掩模板及其制造方法有效
| 申请号： | 200710177426.4 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101435990A | 公开（公告）日： | 2009-05-20 |
| 发明（设计）人： | 周伟峰;金基用;郭建;明星 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/14 | 分类号： | G03F1/14;G03F1/00;G03F7/00;B32B37/12 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘 芳 |
| 地址： | 100176北京*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种掩模板，包括基板，基板上设置有可掩模出第一电路图案的第一偏振片和可掩模出第二电路图案的第二偏振片，第一偏振片和第二偏振片的偏振方向相互垂直。本发明还涉及一种掩模板制造方法，包括：在基板上粘贴第一偏振片；在第一偏振片上形成第一电路图案；在基板上粘贴第二偏振片，第二偏振片的偏振方向垂直于第一偏振片的偏振方向；在第二偏振片上形成第二电路图案。本发明有效克服了现有掩模板只能掩模出一种电路图案的缺陷和现有掩模板可修复性差、有环境污染隐患的缺陷。 | ||
| 搜索关键词： | 模板 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1、一种掩模板，包括基板，其特征在于：所述基板上设置有可掩模出第一电路图案的第一偏振片和可掩模出第二电路图案的第二偏振片，所述第一偏振片和第二偏振片的偏振方向相互垂直。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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