[发明专利]形成过电压保护电路的方法及其结构有效
申请号: | 200710180248.0 | 申请日: | 2007-10-16 |
公开(公告)号: | CN101242089A | 公开(公告)日: | 2008-08-13 |
发明(设计)人: | 保罗·米格里尔瓦卡 | 申请(专利权)人: | 半导体元件工业有限责任公司 |
主分类号: | H02H3/20 | 分类号: | H02H3/20;H02H3/28 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 王永刚 |
地址: | 美国亚*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | 在一个实施例中,过电压保护电路配置成具有在输入电压的不同值处响应的两个控制电路。 | ||
搜索关键词: | 形成 过电压 保护 电路 方法 及其 结构 | ||
【主权项】:
1.一种过电压保护电路,其包括:输入,其配置成接收输入电压;输出;旁路元件,其耦合在所述输入和所述输出之间,以及配置成将所述输入电压耦合至所述输出;第一电路,其配置成响应于不小于第一值的所述输入电压而禁止所述旁路元件;以及第二电路,其配置成响应于不小于第二值的所述输入电压而禁止所述旁路元件,所述第二值比所述第一值小。
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