[发明专利]光学预制件的制备方法无效
| 申请号： | 200710182126.5 | 申请日： | 2007-09-10 |
| 公开（公告）号： | CN101172751A | 公开（公告）日： | 2008-05-07 |
| 发明（设计）人： | R·H·M·达克斯;M·J·N·范斯特拉伦;J·A·哈特苏伊克 | 申请（专利权）人： | 德雷卡通信技术公司 |
| 主分类号： | C03B8/04 | 分类号： | C03B8/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 | 代理人： | 王茂华 |
| 地址： | 荷兰阿姆*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明涉及一种通过在基管内进行一个或多个化学气相沉积反应来制备光学预制件的方法，所述方法包括以下步骤：i)向基管提供一种或多种已掺杂的或未掺杂的玻璃成形前体，以及ii)在基管中引发步骤i)中提供的反应物之间的反应，使得基管内部上形成一个或多个玻璃层，其中步骤ii)包括仅创建在基管内部中的脉冲等离子区。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 预制件 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种通过在基管内进行一个或多个化学气相沉积反应来制备光学预制件的方法，该方法包括以下步骤：i)向所述基管提供一种或多种已掺杂的或未掺杂的玻璃成形前体，以及ii)在所述基管中引发步骤i)中提供的反应物之间的反应，使得所述基管的内部上形成一个或多个玻璃层，其中步骤ii)包括仅创建在所述基管内部中的脉冲等离子区，其特征在于：在所述基管内部形成的所述等离子区是采用＞100Hz的频率、在0.001-5毫秒的周期A中有效的最大等离子功率以脉冲形式实现的。
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