[发明专利]清洁介质及使用该清洁介质的干式清洁设备无效
申请号: | 200710185800.5 | 申请日: | 2007-12-17 |
公开(公告)号: | CN101349887A | 公开(公告)日: | 2009-01-21 |
发明(设计)人: | 佐藤达哉;冈本洋一;渕上明弘;种子田裕介 | 申请(专利权)人: | 株式会社理光 |
主分类号: | G03G21/00 | 分类号: | G03G21/00;B08B7/00 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人: | 王冉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 一种清洁介质及使用该清洁介质的干式清洁设备,所述清洁介质在清洁槽内随同气流飞行以与待清洁的对象碰撞从而去除附在所述对象上的外部物质。该清洁介质包括与对象相接触的外表面以及保持不与对象接触的内表面。清洁介质是柔性的,并形成允许气流从外部流入清洁介质内表面的形状。 | ||
搜索关键词: | 清洁 介质 使用 设备 | ||
【主权项】:
1、一种清洁介质,所述清洁介质在清洁槽内随同气流飞行,以与待清洁的对象碰撞从而去除附在所述对象上的外部物质,该清洁介质包括:与对象相接触的外表面以及保持不与对象相接触的内表面;其中,清洁介质是柔性的,并形成允许气流从外部流入清洁介质内表面的形状。
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