[发明专利]光刻设备和器件制造方法无效
| 申请号： | 200710186092.7 | 申请日： | 2007-11-15 |
| 公开（公告）号： | CN101183223A | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 约翰尼思·欧恩伍里;德克－詹·毕杰沃伊特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 公开了一种光刻设备以及一种器件制造方法。所述光刻设备包括照射系统，配置用于调节辐射束；支架，配置用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将在其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，配置用于保持衬底；以及投影系统，配置用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上。一种涂洒器，例如加湿器，设置用于将分子，例如水分子，施加到图案形成装置的夹持区域上。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光刻设备，包括：照射系统，其被构造用于调节辐射束；支架，其被构造用于支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将在其横截面上的图案赋予辐射束，以形成图案化的辐射束；衬底台，其被构造用于保持衬底；投影系统，其被构造用于将图案化的辐射束投影到衬底的目标部分上；以及涂洒器，用于将分子施加到图案形成装置的夹持区域上。
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