[发明专利]大面积均匀分布的铜八面体纳米颗粒的制备方法无效
申请号: | 200710190291.5 | 申请日: | 2007-11-26 |
公开(公告)号: | CN101250725A | 公开(公告)日: | 2008-08-27 |
发明(设计)人: | 孟祥康;唐少春;朱少鹏;陈延峰 | 申请(专利权)人: | 南京大学 |
主分类号: | C25C5/02 | 分类号: | C25C5/02;C25C1/12;C25D3/38;C30B30/02;C30B29/02 |
代理公司: | 南京天翼专利代理有限责任公司 | 代理人: | 汤志武;王鹏翔 |
地址: | 210093*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 大面积均匀分布的铜纳米八面体的制备方法:采用电解沉积方法,阳极为一个纯度≥99.95%纯铜片,阴极使用的电极是在金属或硅片的正面沉积或镀金膜,电解液是硫酸铜溶液;铜盐电解液的浓度为0.08-0.24mol/L;电沉积时调节恒定总电压为10-100mV,电解时间为20-200s;反应后将负载铜纳米的负极用去离子水反复清洗,最后在空气中晾干。本发明采用了恒压的模式;电解槽为塑料槽;本发明制备的铜纳米晶在GFE基体表面分布的很均匀,其单分散较好,产率高且尺寸可控。本发明方法简单、易操作,产物易分离、纯度较高,具有很好的工业应用前景。 | ||
搜索关键词: | 大面积 均匀分布 铜八面体 纳米 颗粒 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、大面积均匀分布的铜纳米八面体的制备方法:其特征是阳极为一个纯度≥99.95%纯铜片,阴极使用的电极是在金属或硅片的正面沉积或镀金膜,电解液是硫酸铜溶液;铜盐电解液的浓度为0.08-0.24mol/L;电沉积时调节恒定总电压为10-100mV,电解时间为20-200s;反应后将负载铜纳米的负极用去离子水反复清洗,最后在空气中晾干。
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