[发明专利]用于减少沉浸式光刻装置机械磨损的集成电路制造

摘要

提供一种集成电路制造中用于沉浸式光刻工具的部件的保护性涂层，其中通过薄的、硬的保护性涂层来保护暴露于浸液的部件的至少一部分，该保护性涂层包括例如碳化硅、金刚石、类金刚石、氮化硼、碳化硼，碳化钨、氧化铝、蓝宝石、氮化钛，碳氮化钛、氮化铝钛和碳化钛的材料。可以通过例如CVD、PECVD、APCVD、LPCVD、LECVD、PVD、薄膜蒸发、溅射以及在有气体的情况下加温退火的方法来形成保护性涂层。保护性涂层优选地具有大于大约1000并且更优选地大于大约2000的努氏硬度，或大于大约7，更优选地大于大约9的莫氏硬度。保护性涂层最小化了由于扫描仪部件机械磨损造成的缺陷。

主权项

1.一种沉浸式光刻中使用的制造物件，该制造物件包括：第一部件，包括第一部件体和保护性涂层，该保护性涂层包括所述第一部件体的至少一部分上的至少一层，其中所述第一部件配置在沉浸式光刻工具中，使得所述第一部件体的所述部分可以在所述沉浸式光刻工具操作期间接触浸液，并且其中所述保护性涂层的硬度大于石英的硬度。