[发明专利]LICoO2的沉积有效
申请号: | 200710194004.8 | 申请日: | 2005-12-07 |
公开(公告)号: | CN101255545A | 公开(公告)日: | 2008-09-03 |
发明(设计)人: | 张红梅;理查德·E·德马雷 | 申请(专利权)人: | 希莫菲克斯公司 |
主分类号: | C23C14/34 | 分类号: | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/58;C23C14/54;C30B25/06 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 王旭 |
地址: | 美国加*** | 国省代码: | 美国;US |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 根据本发明,描述了用脉冲调制的dc物理气相沉积方法沉积LiCoO2层。这种沉积可以提供LiCoO2结晶层的低温、高沉积速率的沉积,所述LiCoO2结晶层具有理想的<101>或<003>取向。所述沉积的一些实施方案解决了LiCoO2膜的高速率沉积的需要,所述LiCoO2膜可以用作固态可再充电Li电池中的阴极层。根据本发明的方法的实施方案可以消除常规上使所述LiCoO2层结晶所需的高温(>700℃)退火步骤。 | ||
搜索关键词: | licoo sub 沉积 | ||
【主权项】:
1.一种沉积LiCoO2层的方法,所述方法包括:将衬底置于反应器中;至少使惰性气体流动通过所述反应器;将脉冲调制的DC功率施加到包含LiCoO2的溅射靶上;将所述靶安置成与所述衬底相对;在所述衬底上形成LiCoO2层;和向所述衬底和LiCoO2层应用快速热退火。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于希莫菲克斯公司,未经希莫菲克斯公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710194004.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:网络系统
- 下一篇:一种盐酸利托君注射液的使用方法及其专用输液泵
- 同类专利
- 专利分类
- 一种Nd<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-Yb<sub>2</sub>O<sub>3</sub>改性的La<sub>2</sub>Zr<sub>2</sub>O<sub>7</sub>-(Zr<sub>0.92</sub>Y<sub>0.08</sub>)O<sub>1.96</sub>复相热障涂层材料
- 无铅[(Na<sub>0.57</sub>K<sub>0.43</sub>)<sub>0.94</sub>Li<sub>0.06</sub>][(Nb<sub>0.94</sub>Sb<sub>0.06</sub>)<sub>0.95</sub>Ta<sub>0.05</sub>]O<sub>3</sub>纳米管及其制备方法
- 磁性材料HN(C<sub>2</sub>H<sub>5</sub>)<sub>3</sub>·[Co<sub>4</sub>Na<sub>3</sub>(heb)<sub>6</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>6</sub>]及合成方法
- 磁性材料[Co<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(hmb)<sub>4</sub>(N<sub>3</sub>)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub>]·(CH<sub>3</sub>CN)<sub>2</sub> 及合成方法
- 一种Bi<sub>0.90</sub>Er<sub>0.10</sub>Fe<sub>0.96</sub>Co<sub>0.02</sub>Mn<sub>0.02</sub>O<sub>3</sub>/Mn<sub>1-x</sub>Co<sub>x</sub>Fe<sub>2</sub>O<sub>4</sub> 复合膜及其制备方法
- Bi<sub>2</sub>O<sub>3</sub>-TeO<sub>2</sub>-SiO<sub>2</sub>-WO<sub>3</sub>系玻璃
- 荧光材料[Cu<sub>2</sub>Na<sub>2</sub>(mtyp)<sub>2</sub>(CH<sub>3</sub>COO)<sub>2</sub>(H<sub>2</sub>O)<sub>3</sub>]<sub>n</sub>及合成方法
- 一种(Y<sub>1</sub>-<sub>x</sub>Ln<sub>x</sub>)<sub>2</sub>(MoO<sub>4</sub>)<sub>3</sub>薄膜的直接制备方法
- 荧光材料(CH<sub>2</sub>NH<sub>3</sub>)<sub>2</sub>ZnI<sub>4</sub>
- Li<sub>1.2</sub>Ni<sub>0.13</sub>Co<sub>0.13</sub>Mn<sub>0.54</sub>O<sub>2</sub>/Al<sub>2</sub>O<sub>3</sub>复合材料的制备方法