[发明专利]月面形貌环境综合模拟试验场及其模拟方法有效
申请号: | 200710195517.0 | 申请日: | 2007-12-04 |
公开(公告)号: | CN101452655A | 公开(公告)日: | 2009-06-10 |
发明(设计)人: | 樊世超;向树红;冯咬齐;贾阳;申振荣;李涛 | 申请(专利权)人: | 北京卫星环境工程研究所 |
主分类号: | G09B25/00 | 分类号: | G09B25/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种月面形貌环境的综合模拟试验场,其包括密闭黑空间的月面形貌试验场、光照模拟系统、背景环境模拟系统、月面土壤和地形地貌模拟系统,其中,月面形貌试验场内的光照模拟系统包括周边墙体上设置的模拟日光斜射的大功率照明灯,和设置在试验场周边墙体或顶部上散布的若干个小功率照明灯;所述背景模拟系统包括幕布,该幕布选择喷绘月表环形山和深空背景;所述月面土壤和地形地貌模拟系统包括将月面复杂的形貌简化为斜坡,坑和石块的典型地形,然后利用模拟月壤根据已知的月面形貌数据进行构造。本发明通过对月面的土壤和地形地貌环境模拟、光照环境模拟和背景环境模拟进行系统的合理配置,能够理想地模拟月面的形貌环境,为月面巡视探测器在其中进行各项地面试验提供了可能。 | ||
搜索关键词: | 形貌 环境 综合 模拟 试验场 及其 方法 | ||
【主权项】:
1、一种月面形貌环境的综合模拟试验场,其包括密闭黑空间的月面形貌模拟区、光照模拟系统、背景环境模拟系统、月面土壤和地形地貌模拟系统,其中,所述试验场内的光照模拟系统包括于所述模拟区的内部墙体上设置的模拟日光斜射的照明灯,其功率不小于4Kw,以及散布在模拟区四周墙体或顶部上的多个功率不小于1.2Kw的照明灯,以实现日光直射无阴影的效果;所述背景模拟系统包括幕布,该幕布选择喷绘月表环形山和深空背景;所述月面土壤和地形地貌模拟系统包括将月面复杂的形貌简化为斜坡,坑和石块的典型地形,然后利用模拟月壤根据已知的月面形貌数据进行构造。
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