[发明专利]高压元件结构无效

专利信息
申请号: 200710196442.8 申请日: 2007-12-03
公开(公告)号: CN101452929A 公开(公告)日: 2009-06-10
发明(设计)人: 清水悟;康智凯;赵志明;黄汉屏 申请(专利权)人: 力晶半导体股份有限公司;株式会社瑞萨科技
主分类号: H01L27/02 分类号: H01L27/02;H01L23/552
代理公司: 北京市柳沈律师事务所 代理人: 陶凤波
地址: 中国台湾新竹*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 发明提供一种高压元件结构,由隔离结构、高压导体层以及金属遮蔽层所组成。隔离结构设置于基底中,且隔离结构的两侧的基底中分别设置有导电区,高压导体层设置于隔离结构的上层中,金属遮蔽层则设置于隔离结构与高压导体层之间,且完全遮蔽隔离结构。
搜索关键词: 高压 元件 结构
【主权项】:
1. 一种高压元件结构,包括:一元件,设置于一基底上;一高压导体层,设置在该基底上层,横跨过该元件;以及一金属遮蔽层,设置在该元件与该高压导体层之间。
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