[发明专利]光掩膜的检查装置和方法、制造方法和图案转录方法

摘要

在本发明的光掩膜的检查装置中，由光掩膜保持部(3a)保持光掩膜(3)，经照明光学系统(2)向光掩膜(3)照射来自光源(1)的规定波长的光束，经物镜系统(4)，由摄像元件(5)摄像光掩膜(3)的像。使照明光学系统(2)、物镜系统(4)和摄像元件(5)的光轴一致，沿光轴方向彼此独立移动操作物镜系统(4)和摄像元件(5)，摄像光掩膜(3)的像。

主权项

1.一种光掩膜的检查装置，其特征在于，具备：保持作为被检体的光掩膜的掩膜保持部件；发出规定波长的光束的光源；照明光学系统，引导来自所述光源的光束，向由所述掩膜保持部件保持的光掩膜照射该光束；物镜系统，入射被照射到所述光掩膜、并经过了该光掩膜的所述光束；摄像部件，接收经过了所述物镜系统的光束，摄像所述光掩膜的像；支持部件，分别支持所述照明光学系统、所述物镜系统和所述摄像部件；移动操作部件，移动操作所述各个支持部件；和控制部件，控制所述移动操作部件，所述控制部件通过控制所述移动操作部件，在与由所述掩膜保持部件保持的光掩膜的主平面平行的面内，移动操作所述照明光学系统、所述物镜系统和所述摄像部件，在使它们的光轴一致的状态下，使位于规定位置，并且，在光轴方向上位置调整所述物镜系统和所述摄像部件的至少一个。