[发明专利]CMOS图像传感器及其制造方法无效

专利信息
申请号: 200710198721.8 申请日: 2007-12-10
公开(公告)号: CN101211943A 公开(公告)日: 2008-07-02
发明(设计)人: 金尚源 申请(专利权)人: 东部高科股份有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L21/822
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 徐金国;梁挥
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 发明提供一种图像传感器及其制造方法。在本发明的一个具体实施方式中,图像传感器包括其中形成多个光电二极管的半导体衬底,在所述半导体衬底上形成的绝缘层,在所述绝缘层上形成的滤色层,在含有所述滤色层和具有以规则间距放置的多个凹入部分的生成物的整个表面上形成的平坦化层,以及在平坦化层的每一凹入部分形成的多个微透镜并以规则间距放置。
搜索关键词: cmos 图像传感器 及其 制造 方法
【主权项】:
1.一种图像传感器,包括:其中形成多个光电二极管的半导体衬底;形成于所述半导体衬底上的绝缘层;形成于所述绝缘层上的滤色层;在含有所述滤色层和具有以规则间距放置的多个凹入部分的生成物的整个表面上形成的平坦化层;以及在平坦化层的每一凹入部分中形成并以规则间距放置的多个微透镜。
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