[发明专利]CMOS图像传感器及其制造方法无效
申请号: | 200710198721.8 | 申请日: | 2007-12-10 |
公开(公告)号: | CN101211943A | 公开(公告)日: | 2008-07-02 |
发明(设计)人: | 金尚源 | 申请(专利权)人: | 东部高科股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/146 | 分类号: | H01L27/146;H01L21/822 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 徐金国;梁挥 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 韩国;KR |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种图像传感器及其制造方法。在本发明的一个具体实施方式中,图像传感器包括其中形成多个光电二极管的半导体衬底,在所述半导体衬底上形成的绝缘层,在所述绝缘层上形成的滤色层,在含有所述滤色层和具有以规则间距放置的多个凹入部分的生成物的整个表面上形成的平坦化层,以及在平坦化层的每一凹入部分形成的多个微透镜并以规则间距放置。 | ||
搜索关键词: | cmos 图像传感器 及其 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种图像传感器,包括:其中形成多个光电二极管的半导体衬底;形成于所述半导体衬底上的绝缘层;形成于所述绝缘层上的滤色层;在含有所述滤色层和具有以规则间距放置的多个凹入部分的生成物的整个表面上形成的平坦化层;以及在平坦化层的每一凹入部分中形成并以规则间距放置的多个微透镜。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的