[发明专利]一种集成电路引线框架铜带及其制作方法无效
申请号: | 200710200576.2 | 申请日: | 2007-04-30 |
公开(公告)号: | CN101299424A | 公开(公告)日: | 2008-11-05 |
发明(设计)人: | 朱伟康;姚广印;李再新;张浩;赵明;夏君;周跃;李建琼 | 申请(专利权)人: | 贵州高科铜业有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495;H01L21/48;H01B1/02;C22C9/00;B23P17/00;B23P23/06;B21B1/46;B22D11/00;B22D11/14;B22D11/16 |
代理公司: | 贵阳中新专利商标事务所 | 代理人: | 李大刚 |
地址: | 550017贵州*** | 国省代码: | 贵州;52 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种集成电路引线框架铜带及其制作方法。本发明为,所述的集成电路引线框架铜带具体材料组份,按照重量比:铜为99.60-99.85份,铁为0.10-0.20份,磷为0.03-0.04份;其各项性能指标为:电导率不小于85%IACS、强度大于400MPa、硬度大于HV120、延伸率大于11%、软化温度大于400℃。制作方法为:采用多连体铸机组熔融-水平连续拉铸-铸坯结晶淬水-高精轧制-反复分级时效-表面精整-拉弯矫直-精剪分切-卷取包装而成。与现有技术相比,本发明能提高成品率、降低能耗、降低生产成本,同时降低产品含氧量、提高产品性能。 | ||
搜索关键词: | 一种 集成电路 引线 框架 及其 制作方法 | ||
【主权项】:
1.一种集成电路引线框架铜带,其特征在于:所述的集成电路引线框架铜带具体材料组份,按照重量比:铜为99.60-99.85份,铁为0.10-0.20份,磷为0.03-0.04份;该铜带的电导率不小于85%IACS、强度大于400Mpa、硬度大于HV120、延伸率大于11%、软化温度大于400℃。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于贵州高科铜业有限公司,未经贵州高科铜业有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/200710200576.2/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:电机驱动装置
- 下一篇:麻醉镇静深度的脑电图监测装置