[发明专利]一种集成电路引线框架铜带及其制作方法无效

专利信息
申请号: 200710200576.2 申请日: 2007-04-30
公开(公告)号: CN101299424A 公开(公告)日: 2008-11-05
发明(设计)人: 朱伟康;姚广印;李再新;张浩;赵明;夏君;周跃;李建琼 申请(专利权)人: 贵州高科铜业有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495;H01L21/48;H01B1/02;C22C9/00;B23P17/00;B23P23/06;B21B1/46;B22D11/00;B22D11/14;B22D11/16
代理公司: 贵阳中新专利商标事务所 代理人: 李大刚
地址: 550017贵州*** 国省代码: 贵州;52
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摘要: 发明公开了一种集成电路引线框架铜带及其制作方法。本发明为,所述的集成电路引线框架铜带具体材料组份,按照重量比:铜为99.60-99.85份,铁为0.10-0.20份,磷为0.03-0.04份;其各项性能指标为:电导率不小于85%IACS、强度大于400MPa、硬度大于HV120、延伸率大于11%、软化温度大于400℃。制作方法为:采用多连体铸机组熔融-水平连续拉铸-铸坯结晶淬水-高精轧制-反复分级时效-表面精整-拉弯矫直-精剪分切-卷取包装而成。与现有技术相比,本发明能提高成品率、降低能耗、降低生产成本,同时降低产品含氧量、提高产品性能。
搜索关键词: 一种 集成电路 引线 框架 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种集成电路引线框架铜带,其特征在于:所述的集成电路引线框架铜带具体材料组份,按照重量比:铜为99.60-99.85份,铁为0.10-0.20份,磷为0.03-0.04份;该铜带的电导率不小于85%IACS、强度大于400Mpa、硬度大于HV120、延伸率大于11%、软化温度大于400℃。
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