[发明专利]等离子体辅助有机薄膜沉积装置

摘要

本发明提供一种等离子体辅助有机薄膜沉积装置，其主要由一等离子体产生室及一沉积室构成，该等离子体产生室可等离子体热裂解该等离子体产生室内的可聚合材料气体；该沉积室与该等离子体产生室连通，用以接收该热裂解的可聚合材料气体，该沉积室包括一基板装置，该基板装置可供该热裂解的可聚合材料气体沉积于其上以形成有机薄膜；由于等离子体产生室与沉积室分离，因此可提供一低温薄膜沉积工艺，并可避免等离子体离子直接撞击基板；另可于该等离子体产生室的出口端设置导流装置，对可聚合材料气体产生导流或扰流作用，避免过度集中于出口端或基板中心，可有效改善有机薄膜表面粗糙度并提升其均匀性。

主权项

1. 一种等离子体辅助有机薄膜沉积装置，其特征在于，包含：一等离子体产生室，用以对该等离子体产生室内的可聚合材料气体进行热裂解；一沉积室，与该等离子体产生室连通，用以接收该已热裂解的可聚合材料气体，该沉积室包括一基板装置，该基板装置可供该热裂解的可聚合材料气体沉积于其上以形成有机薄膜。