[发明专利]高熔点化合物的去除方法和装置、溶剂回收方法和溶剂回收装置有效
| 申请号： | 200710305778.3 | 申请日： | 2007-09-28 |
| 公开（公告）号： | CN101235159A | 公开（公告）日： | 2008-08-06 |
| 发明（设计）人： | 水岛康博;坂牧聪 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | C08J11/02 | 分类号： | C08J11/02;C08J5/18 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 张成新 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供高熔点化合物的去除方法和装置、溶剂回收方法和溶剂回收装置。一种延迟降低剂去除生产线包括换热器，空气供给管线和清洗液供给管线。清洗液供给管线将清洗液送入第一通道室。空气供给管线将包含有高熔点添加剂的干燥后空气和包含低熔点添加剂的含添加剂的空气的混合空气送入第一通道室。由于混合空气与换热元件的接触，含有高熔点添加剂的混合材料从混合空气中沉淀出来。由于混合空气中高熔点添加剂的熔点MP1可以通过改变混合比率M而被控制到低于清洗液的温度，因此清洗液接触并溶解混合空气中的混合材料。 | ||
| 搜索关键词： | 熔点 化合物 去除 方法 装置 溶剂回收 | ||
【主权项】：
1、一种从混合有具有不同熔点的化合物的气体中去除高熔点化合物的方法，所述的去除方法包括以下步骤：制备温度低于所述高熔点化合物的熔点MP1而高于低熔点化合物的熔点MP2的清洗液；和将所述清洗液与所述气体中的所述高熔点化合物接触。
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