[发明专利]形成无机绝缘层和利用其制造显示装置用阵列基板的方法有效
| 申请号： | 200710305897.9 | 申请日： | 2007-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN101348894A | 公开（公告）日： | 2009-01-21 |
| 发明（设计）人： | 林周洙;金泓植;郭喜荣;洪玄硕;安炳喆;林柄昊 | 申请（专利权）人： | 乐金显示有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/06 | 分类号： | C23C14/06;C23C14/08 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李辉 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及形成无机绝缘层和利用其制造显示装置用阵列基板的方法。一种通过溅射法形成无机绝缘层的方法，所述方法包括以下步骤：向腔室提供混合气体；并且在大约24℃到大约250℃的温度下向所述腔室提供功率，以在所述腔室中的基板与靶材之间生成等离子，其中，所述靶材包括硅、二氧化硅以及氮化硅中的一种。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 无机 绝缘 利用 制造 显示装置 阵列 方法 | ||
【主权项】：
1、一种通过溅射法形成无机绝缘层的方法，所述方法包括以下步骤：向腔室提供混合气体；以及在大约24℃到大约250℃的温度下向所述腔室提供功率，以在所述腔室中的基板与靶材之间生成等离子，其中，所述靶材包括硅、二氧化硅以及氮化硅中的一种。
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