[发明专利]透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材无效
申请号: | 200710307345.1 | 申请日: | 2007-12-27 |
公开(公告)号: | CN101225263A | 公开(公告)日: | 2008-07-23 |
发明(设计)人: | 松田政幸;熊泽光章;平井俊晴 | 申请(专利权)人: | 触媒化成工业株式会社 |
主分类号: | C09D7/12 | 分类号: | C09D7/12;C09D183/00;C09D133/04;G02B1/10 |
代理公司: | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人: | 朱黎明 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明提供可以通过将透明被膜形成用涂料1次涂布并干燥而形成与基材的密合性、强度等良好的同时,防反射性能和防眩性能良好,且生产性和经济性也良好的透明被膜的透明被膜形成用涂料及带透明被膜的基材。所述透明被膜形成涂料是由与基体形成成分的亲和性互不相同的低折射率微粒及高折射率微粒、基体形成成分、聚合引发剂和溶剂形成的透明被膜形成涂料,其特征在于,低折射率微粒及高折射率微粒都以硅烷偶联剂进行了表面处理,经表面处理的低折射率微粒(A)的折射率(nA)在1.20~1.45的范围内,平均粒径在5~200nm的范围内,表面电荷量(QA)在5~80μeq/g的范围内,经表面处理的高折射率微粒(B)的折射率(nB)比(nA)高,平均粒径在0.5~5μm的范围内,表面电荷量(QB)在25~100μeq/g的范围内,低折射率微粒(A)的浓度以固体成分计在0.1~10重量%的范围内,高折射率微粒(B)的浓度以固体成分计在0.1~10重量%的范围内,基体形成成分的以固体成分计的浓度在1~30重量%的范围内。 | ||
搜索关键词: | 透明 形成 涂料 基材 | ||
【主权项】:
1.透明被膜形成涂料,包括:与基体形成成分的亲和性互不相同的低折射率微粒及高折射率微粒、基体形成成分、聚合引发剂和溶剂形成,其特征在于,低折射率微粒及高折射率微粒都以硅烷偶联剂进行了表面处理,经表面处理的低折射率微粒(A)的折射率(nA)在1.20~1.45的范围内,平均粒径在5~200nm的范围内,表面电荷量(QA)在5~80μeq/g的范围内,经表面处理的高折射率微粒(B)的折射率(nB)比(nA)高,平均粒径在0.5~5μm的范围内,表面电荷量(QB)在25~100μeq/g的范围内,低折射率微粒(A)的浓度以固体成分计在0.1~10重量%的范围内,高折射率微粒(B)的浓度以固体成分计在0.1~10重量%的范围内,基体形成成分以固体成分计其浓度在1~30重量%的范围内。
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