[发明专利]液晶显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 200710307377.1 申请日: 2007-12-29
公开(公告)号: CN101256984A 公开(公告)日: 2008-09-03
发明(设计)人: 宋寅德 申请(专利权)人: LG.菲利浦LCD株式会社
主分类号: H01L21/84 分类号: H01L21/84;H01L21/768;G02F1/136
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 李辉;吕俊刚
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 一种制造液晶显示装置的方法包括:提供被分成像素部、数据焊盘部和选通焊盘部的第一基板;通过第一掩模工艺在第一基板的像素部形成栅极和选通线;在第一基板上形成栅绝缘膜;通过第二掩模工艺在第一基板的像素部形成有源图案及源极和漏极并形成与选通线交叉以限定像素区的数据线;在第一基板上形成钝化层;通过第三掩模工艺在钝化层上形成包括第一厚度的第一感光膜图案和第二厚度的第二感光膜图案的感光膜图案;通过使用感光膜图案作为掩模选择性地去除部分钝化层以形成曝露部分漏极的第一接触孔;去除部分第一和第二感光膜图案以去除第二感光膜图案并形成第三厚度的第三感光膜图案;在第一基板的整个表面上形成透明导电膜;去除第三感光膜图案及第三感光膜图案上的导电膜以形成通过第一接触孔与漏极电连接的像素电极;接合第一和第二基板。
搜索关键词: 液晶 显示装置 及其 制造 方法
【主权项】:
1、一种制造液晶显示装置的方法,该方法包括:提供被划分成像素部分、数据焊盘部分和选通焊盘部分的第一基板;通过第一掩模工艺在所述第一基板的所述像素部分处形成栅极和选通线;在所述第一基板上形成栅绝缘膜;通过第二掩模工艺在所述第一基板的所述像素部分处形成有源图案以及源极和漏极,并形成与所述选通线交叉以限定像素区的数据线;在所述第一基板上形成钝化层;通过第三掩模工艺在所述钝化层上形成感光膜图案,该感光膜图案包括具有第一厚度的第一感光膜图案和具有第二厚度的第二感光膜图案;通过使用所述感光膜图案作为掩模选择性地去除所述钝化层的一部分,以形成曝露出所述漏极的一部分的第一接触孔;去除所述第一和第二感光膜图案的一部分,以去除所述第二感光膜图案并形成具有第三厚度的第三感光膜图案;在所述第一基板的整个表面上形成透明导电膜;去除所述第三感光膜图案以及该第三感光膜图案上的导电膜,以形成通过所述第一接触孔与所述漏极电连接的像素电极;以及接合所述第一基板和第二基板。
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