[发明专利]用于等离子体增强化学汽相沉积的方法和设备

摘要

本发明基于减少在等离子体增强化学汽相沉积过程中对基板的加热的目的。为此，提供了一种用于利用等离子体增强汽相沉积来涂覆基板的方法和设备，其中，至少抽空待涂基板的基板表面的部分环境并且容纳进具有用于涂层的起始物质的处理气体，其中所述涂层是通过在充满所述处理气体的基板表面的环境中射入电磁能点燃等离子体来沉积的。所述电磁能是以具有时间上隔开第一间断的多个脉冲的多个脉冲序列的形式而射入的，所述多个脉冲序列优选地为微波或射频脉冲序列，其中所射入的电磁能在所述第一间断内关断，并且其中，所述多个脉冲序列之间的间断比一个脉冲序列中的脉冲之间的第一间断长至少3倍，优选地至少5倍。

主权项

1.一种利用等离子体增强汽相沉积来涂覆基板的方法，其中至少抽空待涂基板的基板表面的部分环境并且容纳进具有用于涂层的起始物质的处理气体，其中所述涂层是通过在充满所述处理气体的基板表面的环境中射入电磁能点燃等离子体来沉积的，其中，所述电磁能是以具有时间上隔开第一间断的多个脉冲的多个脉冲序列的形式而射入的，所述多个脉冲序列优选地为微波或射频脉冲序列，其中所射入的电磁能在所述第一间断内关断，并且其中，所述多个脉冲序列之间的间断比一个脉冲序列中的脉冲之间的第一间断长至少3倍，优选地至少5倍。