[实用新型]真空吸附式工作平台结构无效

专利信息
申请号: 200720005790.8 申请日: 2007-02-16
公开(公告)号: CN201015850Y 公开(公告)日: 2008-02-06
发明(设计)人: 沈永才;沈彦平 申请(专利权)人: 沈永才
主分类号: B25B11/00 分类号: B25B11/00;B25H1/00
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要: 实用新型涉及一种真空吸附式工作平台结构,包括:一下本体,该下本体内设有多个流道,该下本体顶面设置有多个沟槽,所述沟槽沿纵向及横向延伸,所述流道与所述沟槽相通;以及一上本体,该上本体与该下本体锁固结合,该上本体设置有多个吸气孔,所述吸气孔贯穿该上本体顶面及底面,所述吸气孔与所述沟槽相对应。本实用新型的吸气孔吸力平均,能提供平均的真空吸力,可达到较佳的吸附效果。该上本体及该下本体之间以阵列方式间隔设置的锁固件锁固结合,其结合较牢固,且锁固力较平均,使平台具有较佳的平面度,且密封性较佳,不会发生漏气的情况。
搜索关键词: 真空 吸附 工作 平台 结构
【主权项】:
1.一种真空吸附式工作平台结构,其特征在于,包括:一下本体,该下本体内设有多个流道,该下本体顶面设置有多个沟槽,所述沟槽沿纵向及横向延伸,所述流道与所述沟槽相通;以及一上本体,该上本体与该下本体锁固结合,该上本体设置有多个吸气孔,所述吸气孔贯穿该上本体顶面及底面,所述吸气孔与所述沟槽相对应。
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