[实用新型]等离子体处理设备中送气系统的改进结构有效
| 申请号： | 200720052896.3 | 申请日： | 2007-06-18 |
| 公开（公告）号： | CN201063957Y | 公开（公告）日： | 2008-05-21 |
| 发明（设计）人： | 柳灵;李志东;陈蓓 | 申请（专利权）人： | 广州市兴森电子有限公司深圳市睿宝科技有限公司 |
| 主分类号： | H05H1/42 | 分类号： | H05H1/42;H01J37/32 |
| 代理公司： | 广州华进联合专利商标代理有限公司 | 代理人： | 曾旻辉 |
| 地址： | 510730广东省广州市*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种等离子体处理设备中送气系统的改进结构，包括设置在腔体(1)内的送气管(2)，所述送气管(2)上设有朝向所述腔体(1)的内壁的喷口(4)。本实用新型的优点是：结构简单，制造和工程难度小，节省费用，可以显著改善腔体内气体分布的均匀性，提高等离子体处理的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 处理 设备 送气 系统 改进 结构 | ||
【主权项】：
1.一种等离子体处理设备中送气系统的改进结构，包括设置在腔体(1)内的送气管(2)，其特征在于：所述送气管(2)上设有朝向所述腔体(1)的内壁的喷口(4)。
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