[实用新型]超大台面散光曝光机无效
| 申请号： | 200720054212.3 | 申请日： | 2007-07-17 |
| 公开（公告）号： | CN201066434Y | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 夏卫平 | 申请（专利权）人： | 志圣科技(广州)有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 广州市南锋专利事务所有限公司 | 代理人： | 李永庆 |
| 地址： | 510850广东省广州*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种超大台面散光曝光机，包括台框、UV灯源及与UV灯源相配合的第一反射罩、第二反射罩、第三反射罩，其特征在于：还包括减速马达、线形轴承、皮带，所述减速马达通过皮带带动线形轴承转动，所述台框由减速马达通过皮带驱动，所述台框上装有两块22″×24″的PCB板，在该台框上设有多个真空吸嘴及真空泵。由于采用了上述结构，故本实用新型具有结构简单、产量高的特点。 | ||
| 搜索关键词： | 超大 台面 散光 曝光 | ||
【主权项】：
1.一种超大台面散光曝光机，包括台框(2)、UV灯源(1)及与UV灯源(1)相配合的第一反射罩(11)、第二反射罩(12)、第三反射罩(13)，其特征在于：还包括减速马达(3)、线形轴承(4)、皮带(5)，所述减速马达(3)通过皮带(5)带动线形轴承(4)转动，所述台框(2)由减速马达(3)通过皮带(5)驱动，所述台框(2)上装有两块22″×24″的PCB板(21)，在该台框(2)上设有多个真空吸嘴(22)及真空泵。
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