[实用新型]日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置有效
| 申请号： | 200720063533.X | 申请日： | 2007-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN201066238Y | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 聂岳军 | 申请（专利权）人： | 湖南华联瓷业有限公司 |
| 主分类号： | F27B9/36 | 分类号： | F27B9/36;F23D14/84 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 412200湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处扩散烧咀火焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道。燃烧室的底面正对窑车台面，烧咀中心正对下火道的中下部，可充分利用烧咀喷出火焰的动能，对窑内燃烧产物进行搅拌，强化传热。燃烧室是直径为350mm～560mm的半圆拱，长度200mm～350mm；燃烧室的大小取决于所选取的燃烧室空间热强度。燃气通过烧咀喷入烧咀砖进入燃烧室燃烧后，燃烧产物再进入窑内通道。为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道，在燃烧室出口设置分流装置。 | ||
| 搜索关键词： | 日用瓷 还原 隧道窑 低温 氧化 燃烧室 温度 均匀 结构 装置 | ||
【主权项】：
1.日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀结构装置，包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，其特征在于：在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处设有扩散烧咀火焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道的燃烧室。
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