[实用新型]一种高密封真空室装置无效
| 申请号： | 200720076915.6 | 申请日： | 2007-12-21 |
| 公开（公告）号： | CN201140518Y | 公开（公告）日： | 2008-10-29 |
| 发明（设计）人： | 田须然;赵宇 | 申请（专利权）人： | 上海金发科技发展有限公司;广州金发科技股份有限公司 |
| 主分类号： | B29C47/76 | 分类号： | B29C47/76 |
| 代理公司： | 上海伯瑞杰知识产权代理有限公司 | 代理人： | 吴泽群 |
| 地址： | 201714上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型为了解决现有真空室装置因密封性不好，真空室中难以形成负压，产品不能完全脱挥，导致影响产品质量的问题，公开了一种高密封真空室装置，其包括真空室主体与真空插件，真空室主体与真空插件通过螺纹连接并固定在真空螺筒上，在所述真空室主体的底部设置有凹槽，所述凹槽中嵌有橡胶密封圈。与现有同功能真空室装置相比，本实用新型的真空室主体与真空插件可紧密贴合，大大提高了两者之间的密封性，真空室中容易形成负压，产品能够完全脱挥，保证了产品质量的稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 密封 真空 装置 | ||
【主权项】：
1.一种高密封真空室装置，包括真空室主体与真空插件，真空室主体与真空插件通过螺纹连接并固定在真空螺筒上，其特征在于：在所述真空室主体的底部设置有凹槽，所述凹槽中嵌有橡胶密封圈。
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