[实用新型]用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜无效

专利信息
申请号: 200720080292.X 申请日: 2007-07-13
公开(公告)号: CN201138413Y 公开(公告)日: 2008-10-22
发明(设计)人: 李铭;张彬;戴亚平;范正修;王韬;黄伟 申请(专利权)人: 四川大学;上海激光等离子体研究所
主分类号: G02F1/39 分类号: G02F1/39;G02B5/08
代理公司: 成都科海专利事务有限责任公司 代理人: 刘双兰;严礼华
地址: 610064四川*** 国省代码: 四川;51
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摘要: 实用新型涉及一种啁啾脉冲放大光谱整形介质膜结构反射镜。该反射镜包括透明基板,高反射膜系,微浮雕结构,外层保护层;高反射膜系由多层介质膜交替构成,其高折射率膜层与低折射率膜层均与微浮雕结构紧密搭界;微浮雕结构可为多种性状:或微镜高透膜系结构,或空气介质结构,或玻璃浮雕结构,或其他透明介质如半导体结构。当平面波结构的高功率激光啁啾脉冲垂直入射到该反射镜上,光通过高反射膜系,微浮雕结构,剩余光全部透过透明基板到反射镜背后;反射光强分布则调制到所需光谱分布结构。本实用新型反射镜可插入到放大器链路的任何地方,其整形光谱色散分辨本领可达一埃,幅度调制在保证相位不变的条件下超过60%,可用于拍瓦(PW)装置上。
搜索关键词: 用于 啁啾 脉冲 放大 光谱 整形 介质 膜结构 反射
【主权项】:
1.一种用于啁啾脉冲放大光谱整形的介质膜结构反射镜,其特征在于,包括透明基板(1),高反射膜系(2),微浮雕结构(3),外层保护层(4),高反射膜系为高折射率膜层(5)与低折射率膜层(6)相互交替组成的多层介质膜系,高反射膜系的高折射率膜层与低折射率膜层均与微浮雕结构紧密搭界。
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