[实用新型]光罩清洗设备无效
申请号: | 200720127313.9 | 申请日: | 2007-08-10 |
公开(公告)号: | CN201122229Y | 公开(公告)日: | 2008-09-24 |
发明(设计)人: | 廖莉雯 | 申请(专利权)人: | 廖莉雯 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00;H01L21/02 |
代理公司: | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人: | 寿宁;张华辉 |
地址: | 中国台*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种擦拭清洗光罩的设备,特别是指一种可迅速、且有效去除光罩表面微粒子与雾化污渍的设备,该设备至少包含有一输送装置、一侧边擦拭装置及一顶面擦拭装置,以利用输送装置载送光罩依序经由侧边擦拭装置与顶面擦拭装置,而利用含浸有清洗液的擦拭件直接接触擦拭该光罩的上、下边缘表面与顶部表面,借此可有效、且迅速的去除光罩护膜外表面的微粒子与雾化污渍等,以缩短光罩清洗及再运用时间,同时不致污染光罩护膜或留下清洗水痕,并大幅提升光罩清洗后的洁净度。 | ||
搜索关键词: | 清洗 设备 | ||
【主权项】:
1. 一种光罩清洗设备,尤指以擦拭手段去除光罩顶部表面与两侧上、下边缘表面的微粒或雾化污渍的设备,其特征在于其包括:一或多数个侧边擦拭装置,其设于对应光罩一侧,侧边擦拭装置具有一面向光罩侧边的擦拭布,擦拭布可含浸清洗液、且呈不滴水的湿润状,该侧边擦拭装置可利用擦拭布同步擦拭清洗光罩侧边的上、下边缘表面;一或多数个顶面擦拭装置,其设于光罩上方,顶面擦拭装置具有一面向光罩顶部表面的擦拭布,擦拭布可含浸清洗液、且不滴水的湿润状擦拭布,该顶面擦拭装置可利用擦拭布擦拭清洗光罩顶部表面。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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