[实用新型]具有隔离墙和超薄P+阳极的快软恢复二极管芯片有效

专利信息
申请号: 200720131747.6 申请日: 2007-12-19
公开(公告)号: CN201134435Y 公开(公告)日: 2008-10-15
发明(设计)人: 王日新 申请(专利权)人: 王日新
主分类号: H01L29/861 分类号: H01L29/861;H01L29/40
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 245600*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 一种具有隔离墙和超薄P+阳极的快软恢复二极管芯片,属快速整流器件技术领域。其目的是提供一种反向恢复时间短、反向恢复电荷少,正向通态电压小、反向耐压高、高温特性好、动态参数优良的快软恢复二极管芯片。其技术要点:芯片基区的周边为无激光孔隔离区域,通过P型杂质源扩散形成隔离墙,无激光孔隔离区域的上端内侧与阴极之间设置槽型玻璃钝化台面;且浓硼扩散区的厚度为10-50um。由于芯片的基区周边采用无激光孔的P型隔离区域,使P型杂质源在芯片的阴、阳极片周边扩散,形成隔离墙;浓硼扩散区采用超薄阳极,使快软恢复二极管的反向恢复时间达到50-200ns,而正向峰值电压在1.4-2.5V范围内。
搜索关键词: 具有 隔离 超薄 sup 阳极 恢复 二极管 芯片
【主权项】:
1、一种具有隔离墙和超薄P+阳极的快软恢复二极管芯片,包括基区N,依次设置在基区上面的磷扩散区N+和阴极K,依次设置在基区下面的浓硼扩散区P+和阳极A,基区周边与阴极和阳极之间设置的槽型玻璃钝化台面,其特征在于:所述基区N的周边为无激光孔隔离区域,通过P型杂质源扩散形成隔离墙,无激光孔隔离区域的上端内侧与阴极之间设置槽型玻璃钝化台面;且浓硼扩散区P+的厚度为10-50um。
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