[实用新型]观察硅片样品断面的样品台无效
| 申请号： | 200720144307.4 | 申请日： | 2007-11-22 |
| 公开（公告）号： | CN201122096Y | 公开（公告）日： | 2008-09-24 |
| 发明（设计）人： | 裘莺 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | G01B11/00 | 分类号： | G01B11/00;G01B11/24;G01B9/04;G01N13/10 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 | 代理人： | 丁纪铁 |
| 地址： | 201206上*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其中，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。本实用新型通过在样品台的平台上开设可调节宽度的活动槽，可以在一个样品台平台上同时放置不同厚度的样品进行断面观察，节省了工作时间，提高工作效率。 | ||
| 搜索关键词： | 观察 硅片 样品 断面 | ||
【主权项】：
1.一种观察硅片样品断面的样品台，包括底座和与底座相配合的放置样品的平台，其特征在于，放置样品的平台表面设有活动槽，每条活动槽设有调节活动槽宽度的活动槽宽度调节装置。
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