[实用新型]气态氟化氢供应装置有效
| 申请号： | 200720144363.8 | 申请日： | 2007-12-13 |
| 公开（公告）号： | CN201136894Y | 公开（公告）日： | 2008-10-22 |
| 发明（设计）人： | 朴松源;白杰;何有丰;唐兆云 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/44 | 分类号： | C23C16/44;H01L21/205;H01L21/365;B08B9/093 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 | 代理人： | 李丽 |
| 地址： | 201203*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种气态氟化氢供应装置，包括，存放氟化氢的贮存腔室和用于关闭或开放所述贮存腔室的气体开关，所述氟化氢包含液态氟化氢和气态氟化氢；所述气态氟化氢供应装置还连接有用以加热所述贮存腔室的控温装置。可提高位于其贮存腔室内的液态氟化氢的利用率。 | ||
| 搜索关键词： | 气态 氟化氢 供应 装置 | ||
【主权项】：
1.一种气态氟化氢供应装置，包括，存放氟化氢的贮存腔室和用于关闭或开放所述贮存腔室的气体开关，所述氟化氢包含液态氟化氢和气态氟化氢；其特征在于：所述气态氟化氢供应装置还连接有用以加热所述贮存腔室的控温装置。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
