[实用新型]具有磁场增强装置的等离子体装置无效
| 申请号： | 200720169925.4 | 申请日： | 2007-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN201066954Y | 公开（公告）日： | 2008-05-28 |
| 发明（设计）人： | 陈强;张跃飞;付亚波;杨丽珍;孙运金 | 申请（专利权）人： | 北京印刷学院 |
| 主分类号： | H05H1/10 | 分类号： | H05H1/10 |
| 代理公司： | 北京同汇友专利事务所 | 代理人： | 高云瑞;杨宗润 |
| 地址： | 102600北京市大兴*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 具有磁场增强装置的等离子体装置属于等离子体应用技术领域，用于提高等离子体区内等离子体的密度；采用磁场增强装置，将等离子体约束在一定的磁场区域内；磁场增强装置为与电极结构配套的永久性磁体组成的磁块组合体(12)，引入磁场的强度为10～1000mT；在适宜基材连续卷绕工艺的等离子体化学气相沉积装置中，磁块组合体(12)，由与左、右转辊电极(2)、(3)相应的外、内磁块组合体(13)、(14)组成；有益效果，用于等离子体化学气相沉积，可于基材表面沉积聚合成纳米级厚的功能保护膜，致密度高，阻隔性好；用于大气放电装置，对物料改性处理及对物体表面改性处理；能提高等离子体的应用性能和效果，并且速度快。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 磁场 增强 装置 等离子体 | ||
【主权项】：
1.具有磁场增强装置的等离子体装置，具有等离子体装置的基本结构组成，包括驱动电源、电极及机架，以及装在机架上的带动被等离子体作用的基材连续或间歇式通过等离子体区的机构，其特征在于：还具有能将等离子体约束在一定的磁场区域内，提高等离子体区内等离子体密度的磁场增强装置，所述磁场增强装置主要是以永久性磁体组成的磁块组合体，并且固定在相应配套的支架上，支架装在机架上；磁场增强装置引入磁场的强度为10～1000mT。
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