[发明专利]面发光激光阵列、光学扫描装置和成像装置有效
| 申请号： | 200780000885.3 | 申请日： | 2007-04-27 |
| 公开（公告）号： | CN101346858A | 公开（公告）日： | 2009-01-14 |
| 发明（设计）人： | 佐藤俊一;伊藤彰浩;庄子浩义;林义纪;市井大辅;原敬;藤井光美 | 申请（专利权）人： | 株式会社理光 |
| 主分类号： | H01S5/183 | 分类号： | H01S5/183;B41J2/44 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 王冉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种面发光激光阵列，包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件，其中，从沿第二方向排列的多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同该第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿该第一方向具有大致相等的间隔，多个面发光激光二极管元件沿第一方向以被设定为基准值的间隔排列，以及沿第一方向排列的面发光激光二极管元件的数量少于沿第二方向排列的面发光激光二极管元件的数量。 | ||
| 搜索关键词： | 发光 激光 阵列 光学 扫描 装置 成像 | ||
【主权项】：
1.一种面发光激光阵列，包括设置成二维阵列形式的多个面发光激光二极管元件，其中，从沿第二方向排列的所述多个面发光激光二极管元件的各自中心起垂直于沿同所述第二方向垂直的第一方向延伸的直线绘制的多条直线被形成为沿所述第一方向具有大致相等的间隔，所述多个面发光激光二极管元件沿所述第一方向以被设定为基准值的间隔排列，以及沿所述第一方向排列的所述面发光激光二极管元件的数量少于沿所述第二方向排列的所述面发光激光二极管元件的数量。
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