[发明专利]聚硫氨酯类光学材料制造用内部脱模剂有效
申请号: | 200780002775.0 | 申请日: | 2007-02-19 |
公开(公告)号: | CN101370841A | 公开(公告)日: | 2009-02-18 |
发明(设计)人: | 岩住正典;河户伸雄;林秀俊;田中守;小林诚一 | 申请(专利权)人: | 三井化学株式会社 |
主分类号: | C08G18/22 | 分类号: | C08G18/22;C08K5/521;C08K3/08;C08L25/04 |
代理公司: | 北京市金杜律师事务所 | 代理人: | 杨宏军 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及一种聚硫氨酯类光学材料制造用内部脱模剂,是通过将酸性磷酸酯化合物、和选自Zn、Cu、Fe、Ga、Bi、Al及Zr中的至少1种金属混合而得到的,在该内部脱模剂中混合有0.01~20重量%的上述金属。 | ||
搜索关键词: | 聚硫氨酯类 光学材料 制造 内部 脱模剂 | ||
【主权项】:
1.一种聚硫氨酯类光学材料制造用内部脱模剂,是通过将酸性磷酸酯化合物、和选自Zn、Cu、Fe、Ga、Bi、Al及Zr中的至少1种金属混合而得到的聚硫氨酯类光学材料制造用内部脱模剂,该内部脱模剂中混合有0.01~20重量%的所述金属。
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